研究人员发现有人渴望被晒黑源于基因特殊
2014年12月04日 13:31 来源：环球网 
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参与互动(0)据英国《都市日报》12月2日报道，近日，美国耶鲁大学的科学家研究发现，部分人因体内存在名为“PTCHD2”的特殊基因而格外沉迷紫外线照射，渴望被晒黑。
这项研究以300名喜爱在户外晒太阳或享受日光浴的人为样本，结果发现，其中79个人都有此类“晒黑倾向”基因。这种基因的存在使人们想接受阳光照射的渴望就如同酗酒成瘾、吸毒成瘾和吸烟成瘾一样强烈。
这项研究的负责人布伦达愠祓蕲尔教授(Dr Brenda Cartmel)表示：“我们曾特别研究过是否此基因在年轻人身上的作用更加显著，因为他们总爱待在户外享受阳光。”
据了解，这项研究将对皮肤癌的医治做出巨大贡献，但仍需进一步的研究。
【编辑:张尼】
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